Esfolio Pure Skin alvejas esences maska – 1 gabals

Esfolio Pure Skin Aloe Essence Mask ir Korejas plēves maska, kas piesātināta ar alvejas ekstraktu un hialuronskābi, kas intensīvi mitrina un nomierina jutīgu ādu. Plēve cieši pielāgojas sejas kontūrām, apņemot to ar augu izcelsmes esences slāni.

Par produktu

Esfolio ir Korejas kosmētikas zīmols, kura produkti ir balstīti uz augu ekstraktiem. Pure Skin Aloe Essence Mask ir auduma maska, kas piesātināta ar Aloe barbadensis esenci, ietverot ādu mitrinošu un barojošu sastāvdaļu slānī.

Maska cieši pielāgojas sejas kontūrām, palīdzot esencei efektīvi iesūkties ādā. Formulā ir pievienota hialuronskābe, kā arī ženšeņa un portulakas ekstrakti, kas palīdz nomierināt jutīgu ādu.

Sastāvdaļas, kas jums patiks

• Aloes ekstrakts (Aloe barbadensis) – mitrina un nomierina kairinājumu
• Hialuronskābe (nātrija hialuronāts) – saista ūdeni ādā un uzlabo mitrināšanu
• Žeņšeņa ekstrakts (Panax ginseng) – baro un atjauno ādu
• Portulakas ekstrakts (Portulaca oleracea) – nomierina un atsvaidzina jutīgu ādu

Lietošanas mērķis

Šī maska ir piemērota jutīgai ādai, kurai nepieciešama intensīva mitrināšana un nomierināšana. Tā lieliski darbojas kā daļa no ikdienas ādas kopšanas rutīnas vai kā ātrs atjaunojošs rituāls pēc nogurdinošas dienas.

Lietošana

1. Notīriet seju un uzklājiet masku, pielāgojot to sejas kontūrām.
2. Atstājiet uz 15–20 minūtēm.
3. Noņemiet masku un viegli ieklopējiet atlikušo esenci ādā, līdz tā iesūcas.

Sastāvdaļas (INCI)

Water, Glycerin, Alcohol Denat., Aloe Barbadensis (Aloe Vera) Leaf Extract, Portulaca Oleracea (Green Purslane) Extract, Panax Ginseng (Ginseng) Root Extract, Chaenomeles Sinensis (Chinese-Quince) Fruit Extract, Sodium Hyaluronate, Butylene Glycol, PEG/PPG-17/6 Copolymer, Carbomer, Xanthan Gum, PEG-60 Hydrogenated Castor Oil, Disodium EDTA, Propylene Glycol, Betaine, Ethylhexylglycerin, Triethanolamine, Phenoxyethanol, Methylparaben, Fragrance.